Оборудованиe для высокопроизводительной имплантации ионами и нейтралями

Оборудованиe для высокопроизводительной имплантации ионами и нейтралями легирующих примесей углерода, азота, бора и других с целью упрочнения инструментов и ответственных деталей.
. Оборудование ионной имплантации состоит из:
источника ионов,
высоковольтного блока питания до 10 Кв постоянного тока или импульсного до 50 кВ,
токи до 500мА при напряжении 600В.
Вакуумной камеры со средствами откачки до 0,000Па,
Газовой системы. Баллон с натекателем. Вакууметры, манометр.
Ионы электростатически ускоряются до высокой энергии, и попадают на мишень, которая является материалом для имплантирования.
В разработанном нами (патент № 2740146 источник ионов ) конструкции ионного источника токи достигают десятков и сотен милиампер, то есть в 100-1000 раз выше чем существующие образцы оборудования, во столько раз возрастает производительность. Также в нашей конструкции имплантируются не только ионы, но и высокоэнергетичные нейтрали, доля которых больше, чем доля ионов, так что требуемая доза достигается еще быстрее и эффективнее.

№ 6965423, Размещено 12 мая

228

Ещё Поднять

Избранное

• Разослать
• Редактировать